ซิลิกาเหลว (SiO₂ อสัณฐาน) และเซรามิกควอตซ์มีสัมประสิทธิ์การขยายตัวด้วยความร้อนต่ำที่สุดในวัสดุของแข็งทั้งหมด (≈0.55×10⁻⁶/K สำหรับซิลิกาเหลวสังเคราะห์) ร่วมกับการส่งผ่านแสงสูงจาก UV ถึง IR การขยายตัวใกล้ศูนย์นี้ทำให้มันเป็นวัสดุอ้างอิงสำหรับโต๊ะวัดความละเอียด แบบพิมพ์โฟโตลิโทกราฟี กระจกกล้องโทรทรรศน์ และทุกงานที่เสถียรภาพขนาดผ่านการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิสำคัญที่สุด ซิลิกาเหลวยังแทบไม่มีความเครียดความร้อนเมื่อเผาหรือเย็นลงเร็ว ให้ทนแรงกระแทกความร้อนไร้ขีดจำกัดในทางปฏิบัติ
ซิลิกาเหลว (SiO₂ อสัณฐาน) และเซรามิกควอตซ์มีสัมประสิทธิ์การขยายตัวด้วยความร้อนต่ำที่สุดในวัสดุของแข็งทั้งหมด (≈0.55×10⁻⁶/K สำหรับซิลิกาเหลวสังเคราะห์) ร่วมกับการส่งผ่านแสงสูงจาก UV ถึง IR
การขยายตัวใกล้ศูนย์นี้ทำให้มันเป็นวัสดุอ้างอิงสำหรับโต๊ะวัดความละเอียด แบบพิมพ์โฟโตลิโทกราฟี กระจกกล้องโทรทรรศน์ และทุกงานที่เสถียรภาพขนาดผ่านการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิสำคัญที่สุด ซิลิกาเหลวยังแทบไม่มีความเครียดความร้อนเมื่อเผาหรือเย็นลงเร็ว ให้ทนแรงกระแทกความร้อนไร้ขีดจำกัดในทางปฏิบัติ
Indicative ranges — confirm grade and test conditions before design commitment.
| Property | Indicative Value |
|---|---|
| องค์ประกอบ | Amorphous silicon dioxide |
| ความหนาแน่น | 2.20 g/cm3 |
| ความแข็งวิกเกอร์ส | 600-800 HV |
| ความแรงดัด | 50-70 MPa |
| ความเหนียวต่อการแตกหัก | 0.7-1.0 MPa.m1/2 |
| อุณหภูมิการใช้งานสูงสุด | 1000 C (1200 C short term) |
| การนำความร้อน | 1.4 W/m.K |
| การขยายตัวด้วยความร้อน (20-1000 C) | 0.5 x10-6/K |
