Sílica fundida (SiO₂ amorfo) e cerâmicas de quartzo oferecem a menor expansão térmica de qualquer material sólido (≈0,55×10⁻⁶/K para sílica fundida sintética) combinada com alta transparência óptica do UV ao IR.
Essa expansão quase zero a torna o material de referência para mesas de metrologia de precisão, retículos de fotolitografia, espelhos de telescópio e qualquer aplicação onde a estabilidade dimensional entre variações de temperatura é crítica. A sílica fundida também é praticamente livre de tensão térmica durante aquecimento ou resfriamento rápido, conferindo-lhe resistência ao choque térmico ilimitada na prática.