Silika lebur (SiO₂ amorfus) dan seramik kuarza mempunyai pekali pengembangan haba terendah dalam semua bahan pepejal (≈0.55×10⁻⁶/K untuk silika lebur sintetik) digabungkan dengan penghantaran cahaya tinggi dari UV ke IR.
Pengembangan hampir sifar ini menjadikannya bahan rujukan untuk meja ukur ketepatan, cetakan fotolitografi, cermin teleskop dan sebarang aplikasi di mana kestabilan saiz melalui variasi suhu adalah kritikal. Silika lebur juga praktikal tiada tegasan haba semasa dibakar atau disejukkan pantas, memberikan rintangan kejutan haba praktikal tak terhingga.