Komponen seramik pengendalian wafer mengangkat, memegang dan memindahkan wafer silikon di dalam alat proses. Ia berfungsi dalam vakum atau atmosfera terkawal, pada suhu, dan bersentuhan dengan permukaan yang tidak boleh bertoleransi pencemaran.
Lengan pengendalian membawa wafer antara stesen, jadi ia mesti kaku, ringan dan stabil secara dimensi dalam vakum dan pada suhu proses. Kami mengekalkan datum pemasangan dan kedudukan hujung bersama, kerana lengan yang terpesong di bawah beban mengubah di mana wafer mendarat.
Alumina ialah seramik kejuruteraan lalai. Ia menggabungkan kekerasan tinggi (1500-1700 HV) dengan penebat elektrik yang baik dan ketakreaktifan kimia pada kos lebih rendah berbanding kebanyakan seramik teknikal, dan pada kemurnian 99.8% ia mengekalkan kekuatan sehingga 1700°C sambil menahan kebanyakan asid, alkali dan pelarut.
Ia bukan pilihan paling lasak. Pada keretanan patah 3-4 MPa·m½, impak tajam atau beban titis akan mengelupas pinggir, jadi chamfer dan jejari perlu ada dalam lukisan dari awal.
Spesifikasi
| Jenis | penggerak kesan hujung, lengan, garfu, jari, bot |
| Saiz wafer | 100, 150, 200 dan 300 mm |
| Kekapalan | hingga 0.01 mm |
| Permukaan sentuhan | digilap, Ra 0.2 µm atau lebih baik |
| Keadaan tepi | berjejari, bebas cip |
| Kebersihan | dibersihkan dan dibungkus untuk masuk bilik bersih |
| Atmosfera | vakum, lengai atau pengoksidaan suhu tinggi |
Spesifikasi Alumina
| Komposisi | Aluminium oksida, 96% / 99.5% / 99.8% |
| Ketumpatan | 3.70-3.95 g/cm³ |
| Kekerasan Vickers | 1500-1700 HV |
| Kekuatan lentur | 300-400 MPa |
| Keretanan patah | 3-4 MPa·m½ |
| Suhu perkhidmatan maksimum | 1500°C (99.8%: 1700°C) |
| Kekonduksian terma | 25-35 W/m·K |
| Pengembangan terma (20-1000°C) | 8.0 ×10⁻⁶/K |
Pemesinan dan toleransi
Komponen pengendalian digiling daripada bahan mentah butiran halus dan disudahkan ke permukaan terkawal, dengan tepi dijejari dan semua muka dibersihkan untuk perkhidmatan vakum. Kami memberi perhatian khusus kepada permukaan sentuhan, kerana muka sentuhan kasar adalah kedua-dua sumber zarah dan tapak haus pada wafer itu sendiri.
Di mana ia digunakan
- Penggerak kesan hujung dan garfu untuk robot pemindah wafer
- Lengan pengendalian dan pin angkat dalam alat CVD, PVD dan difusi
- Bot dan pembawa untuk pemprosesan relau
- Blok chuck dan chuck elektrostatik
- Sokongan pengasing dan perisai dalam kebuk proses
Soalan lazim
Bahan manakah yang harus saya pilih untuk komponen pengendalian wafer?
Alumina untuk pengendalian am dan pengasingan elektrik, karbida silikon di mana kekakuan dan kekonduksian terma penting, dan nitrid silikon di mana komponen melihat kitaran terma atau tegasan sentuhan. Pilihan bergantung pada atmosfera alat dan suhu.
Bolehkah anda membekal komponen dibersihkan untuk kegunaan bilik bersih?
Ya. Komponen dibersihkan, diperiksa untuk cip tepi dan dibungkus untuk masuk bilik bersih, dan kami boleh membekal pensijilan bahan atas permintaan.