Гафния (HfO₂) — высокодиэлектрический огнеупорный керамический материал с высокой температурой плавления, используемый преимущественно в передовых применениях, где незаменимо сочетание его термической стабильности, сечения поглощения нейтронов и широкой запрещённой зоны.
Он служит затворным диэлектриком в передовых полупроводниках (заменяя SiO₂ на нормах <45 нм), огнеупорным компонентом плазменного травления и в ядерных применениях — как материал регулирующих стержней и поглотитель нейтронов. Плавясь при ~2750 °C с отличной химической стабильностью, гафния выживает в средах, которые плавят или корродируют большинство других керамик.