Hafnia (HfO₂) ialah seramik refraktori pekali-k-tinggi, takat lebur tinggi, digunakan terutamanya dalam aplikasi maju di mana gabungan kestabilan haba, keratan rentas tangkapan neutron dan jurang jalur lebarnya tidak boleh diganti.
Ia berfungsi sebagai dielektrik pintu dalam semikonduktor maju (menggantikan SiO₂ pada nod bawah 45 nm), komponen bilik kakisan plasma, dan dalam aplikasi nuklear sebagai bahan bar kawalan serta penyerap neutron. Melebur pada ~2750 °C dengan kestabilan kimia cemerlang, hafnia terselamat dalam persekitaran peleburan atau kakisan yang memusnahkan kebanyakan seramik lain.